हार्डवेयर उद्योग में पीवीडी और सीवीडी का अनुप्रयोग

PVD (भौतिक वाष्प जमाव): भौतिक विधि (जैसे वाष्पीकरण, स्पटरिंग, आदि) का उपयोग सब्सट्रेट सतह पर कोटिंग सामग्री को वाष्पीकृत करने और इसे एक आवरण परत में जमा करने के लिए किया जाता है।भौतिक प्रक्रिया का उपयोग सामग्री हस्तांतरण और परमाणुओं या अणुओं को स्रोत से सब्सट्रेट सतह पर स्थानांतरित करने के लिए करने की प्रक्रिया।इसका कार्य कुछ कणों को विशेष गुणों (उच्च शक्ति, पहनने के प्रतिरोध, गर्मी लंपटता, संक्षारण प्रतिरोध, आदि) के साथ कम प्रदर्शन वाले मैट्रिक्स पर स्प्रे करना है, ताकि मैट्रिक्स का प्रदर्शन बेहतर हो।

CVD (रासायनिक वाष्प जमाव): मैट्रिक्स सामग्री की सतह पर रासायनिक रूप से प्रतिक्रिया करने वाली गैस और एक आवरण परत बनाने की एक विधि।यह एक प्रक्रिया प्रौद्योगिकी है जिसमें प्रतिक्रियाशील पदार्थ ठोस पदार्थों के उत्पादन के लिए गैसीय परिस्थितियों में रासायनिक रूप से प्रतिक्रिया करते हैं, जो गर्म ठोस मैट्रिक्स सतह पर जमा होते हैं, और फिर ठोस पदार्थ तैयार होते हैं।यह अनिवार्य रूप से परमाणु श्रेणी में गैसीय जन स्थानांतरण प्रक्रिया से संबंधित है।

सीवीडी या पीवीडी भी एक कोटिंग विधि है जैसे निकल चढ़ाना, सोना चढ़ाना और जस्ता चढ़ाना, कोटिंग का कार्य पहनने के प्रतिरोध और संक्षारण प्रतिरोध को बढ़ाना है

पीवीडी और सीवीडी के बीच अंतर:

PVD CVD से पतला है, और CVD की कोटिंग की मोटाई 10 ~ 20 μ m है।PVD की कोटिंग की मोटाई केवल 3 ~ 5 μ M या तो है।PVD का उपचार तापमान लगभग 500 ℃ है, जबकि CVD भट्टी में तापमान 800 ~ 1000 ℃ है।यह देखा जा सकता है कि उच्च तापमान के कारण, सीवीडी में उपचारित सामग्री के लिए उच्च तापमान प्रतिरोध की आवश्यकता होती है

सीवीडी वर्तमान में बेहतर पर्यावरण के अनुकूल और पहनने के लिए प्रतिरोधी कोटिंग विधि है।इसका उपयोग घड़ी और घड़ी उद्योग, हार्डवेयर उद्योग, ऑटोमोबाइल उद्योग, खानपान उद्योग आदि जैसे कई क्षेत्रों में किया जा सकता है।

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